大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題，就是關(guān)于上海生產(chǎn)非標準設備公司的問(wèn)題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹上海生產(chǎn)非標準設備公司的解答，讓我們一起看看吧。

傳上海微電子研發(fā)出11nm光刻機，請問(wèn)是真的嗎？有誰(shuí)知道？

這個(gè)消息不好定論，提供多少納米工藝一般指光波長(cháng)，11nM特意避開(kāi)常用波長(cháng)怕別人記不住？我所知道的好用的激光器一般規格是一樣的基波長(cháng)，然后都攜帶一串幅度減小的多個(gè)高次諧波，1/3，1/5，1/7波長(cháng)…有限一連串的波，用濾波器把波長(cháng)極短的那個(gè)給濾出來(lái)做為最小的光斑使用，所以少有8，9，10nM的波長(cháng)，所以11nM有沒(méi)有難說(shuō)，請大家判斷，或請發(fā)消息者說(shuō)明是哪來(lái)的。

國產(chǎn)光刻機如果能到11nm的程度，那么華為也不會(huì )陷入到“無(wú)芯可用”的尷尬境地。準確的說(shuō)應該是研發(fā)微電子研發(fā)的28nm光刻機將在2021年正式落地，這款光刻機有生產(chǎn)11nm芯片的能力。

從光源上細分現在世界上光刻機的發(fā)展前后已經(jīng)經(jīng)歷了五代，第四代光刻機使用的是波長(cháng)為139納米的Arf光源的光刻機，其制程工藝節點(diǎn)為130納米-65納米，45納米-22納米。如果從這點(diǎn)上看上海微電子研發(fā)的28nm的光刻機是一個(gè)標準的四代光刻機。

世界最先進(jìn)的第五代光刻機使用的是波長(cháng)為13.5納米的EUV光源的極紫外光刻機，其制程節點(diǎn)為22納米-7納米。這個(gè)領(lǐng)域的產(chǎn)品基本上全被ASML把持著(zhù)，無(wú)人能撼動(dòng)其王者的地位。

雖然上海微電子和ASML差距極大，但是它在低端光刻機市場(chǎng)依舊表現不俗，并在國內占據了80%的市場(chǎng)份額。

從目前曝光的信息上看，上海微電子研發(fā)的28nm的光刻機有生產(chǎn)11nm芯片的能力，這對華為來(lái)說(shuō)絕對是一個(gè)天大的好消息。

目前臺積電在加班加點(diǎn)的趕制華為最新麒麟芯片的訂單，按照華為的公司戰略，一般采購的芯片足夠支撐公司兩年使用。雖然最新的芯片采用了5nm的工藝，但是在11nm工藝的加工下依舊能用，當然不可避免的后果就是芯片體積變大、性能下降以及發(fā)熱量提高，但是這比被完全被美國卡住脖子強太多了。

況且只要能熬過(guò)這幾年，隨著(zhù)國家資源對光刻機領(lǐng)域的傾斜以及中美關(guān)系的改善，芯片問(wèn)題也很可能會(huì )迎來(lái)新轉機。

其實(shí)這點(diǎn)很多科技領(lǐng)域的專(zhuān)家都做過(guò)預測，追趕是肯定追趕不上ASML的腳步了，但是達到ASML現在的水平還是有可能的。當然專(zhuān)家們給了一個(gè)不太樂(lè )觀(guān)的預測，那就是達到ASML現在的水平至少要10~20年左右。

ASML其實(shí)類(lèi)似于一個(gè)組裝工廠(chǎng)，它設計出來(lái)最新的光刻機后需要從全世界采購最先進(jìn)的零件，進(jìn)而拼裝組成一臺完整的光刻機。現在這些零件商把持著(zhù)所有零件的銷(xiāo)售，即使我們拿到了ASML的圖紙，沒(méi)有零件依舊白搭。

這意味著(zhù)我們需要在光刻機的每個(gè)領(lǐng)域都要取得突破，除非得到國家的鼎力支持，否則光靠一個(gè)上海微電子還是過(guò)于勢單力薄了。

光刻機是芯片生產(chǎn)關(guān)鍵設備，ASML的EUV光刻機可量產(chǎn)7nm芯片

光刻機最核心的部件是鏡頭和激光光源，而在這兩項技術(shù)上，中國因起步晚，還在追趕荷蘭日本等國家。目前全球能生產(chǎn)5nm及以上的光刻機只有荷蘭的ASML一家企業(yè)，ASML掌握了極紫外光源技術(shù)，可以生產(chǎn)7nm及5nm的芯片。

而極紫外光源技術(shù)也并非ASML獨家研發(fā)的，在研發(fā)前期，是多國參與的，包括了歐洲多國，還有日本韓國等國家。ASML的EUV（極紫外光刻）光刻機包含了多個(gè)國家的專(zhuān)利，可以說(shuō)是是全球人類(lèi)智慧的結晶。

“光刻”的意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形，而“光刻”是通過(guò)光刻機來(lái)實(shí)現的。光刻機可以簡(jiǎn)單的理解為一種用紫外線(xiàn)在硅片、石墨烯等晶圓上刻集成電路的系統設備。

縱觀(guān)全球光刻機市場(chǎng)，通常情況下都是由荷蘭ASML公司為主導，僅僅只是荷蘭ASML一家便占據了全球89%以上的市場(chǎng)份額，而三星和臺積電這些知名芯片制造商，通常都離不開(kāi)ASML光刻機的支持。一臺光刻機的零配件高達5萬(wàn)個(gè)，制造過(guò)程極其復雜，被譽(yù)為“現代光學(xué)工業(yè)之花”。

國內情況

我們國家光刻機研發(fā)起步晚，但追趕速度很快。目前光刻機全球梯隊中，荷蘭ASML排名第一，是唯一一家可以生產(chǎn)EUV光刻機的廠(chǎng)家。其次是日本的佳能還有康尼等公司，也可以獨立生產(chǎn)光刻機，但是面對的市場(chǎng)是中低端芯片市場(chǎng)。排名緊隨其后的是國內的上海微電子裝備（集團）股份有限公司，雖然也能夠生產(chǎn)出來(lái)光刻機，但目前只能夠生產(chǎn)出來(lái)90nm的光刻機。

雖然我們國內的技術(shù)水平還無(wú)法量產(chǎn)7nm芯片，但最新報道消息稱(chēng)，上海微電子預計在今年12月，將可能下降首臺采用ArF光源的可生產(chǎn)11納米的SSA800/10W光刻機。當前，由上海微電子主導研發(fā)的首臺國產(chǎn)11nm光刻機所采用的核心器件技術(shù)領(lǐng)域，依附在浙江大學(xué)研發(fā)團隊的啟爾機電推出了可用于最高11nm制程浸沒(méi)式光刻機的浸液系統，在加上5nm蝕刻機和193nm光刻膠基本實(shí)現純國產(chǎn)，所以在國產(chǎn)技術(shù)的支持下，上海微電子光刻機低調斬獲2400項專(zhuān)利技術(shù)，有望成為光刻機國產(chǎn)的希望。

雖說(shuō)在光刻機領(lǐng)域我國取得了新的進(jìn)展，但是目前國內光刻機生產(chǎn)所需要的零部件依然需要從國外市場(chǎng)進(jìn)口，很顯然在光刻機的生產(chǎn)過(guò)程中，我國對國外的依賴(lài)還是比較大的。不過(guò)，不管多難，我國企業(yè)都不能放棄，光刻機的自主研發(fā)是一個(gè)漫長(cháng)的過(guò)程，日后還需要不斷努力，爭取將核心技術(shù)和供應鏈全都掌握在自己手中，期待日后國產(chǎn)光刻機能夠在國際市場(chǎng)中取得更好的成績(jì)，讓國產(chǎn)芯片在全球市場(chǎng)立足！

到此，以上就是小編對于上海生產(chǎn)非標準設備公司的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于上海生產(chǎn)非標準設備公司的1點(diǎn)解答對大家有用。