大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題，就是關(guān)于芯片制造的生產(chǎn)設備的問(wèn)題，于是小編就整理了5個(gè)相關(guān)介紹芯片制造的生產(chǎn)設備的解答，讓我們一起看看吧。

做手機芯片的機器叫什么？

那個(gè)叫光刻機，光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。華為就是因為沒(méi)有自己的光刻機，現在才沒(méi)有辦法繼續自己生產(chǎn)芯片了，不過(guò)我相信，中國任早晚會(huì )有屬于自己的光刻機。

光刻機是芯片制造的關(guān)鍵設備，ASML市占率高達84%占據壟斷地位，近期光刻機國產(chǎn)化進(jìn)程加快。光刻機是一種投影曝光系統，光刻過(guò)程是將掩膜板上的圖形曝光至預涂了光刻膠的晶圓表面上，是晶圓制造的核心工序，在整個(gè)硅片加工成本中占到1/3。光刻機是芯片制造的關(guān)鍵設備，技術(shù)難度最高， 單臺成本最大，整體均價(jià)約0.3億美元/臺。

duv光刻機可以生產(chǎn)什么芯片？

duv光刻機理論上是可以生產(chǎn)22納米以上制程的芯片。

光刻機目前主流有兩類(lèi)，一種是euv光刻機，生產(chǎn)14納米以下高端芯片。另一類(lèi)是中端duv光刻機，采用193納米深紫外線(xiàn)光源，其最高制程是22納米，但通過(guò)多重曝光可以生產(chǎn)14納米芯片，甚至可以生產(chǎn)接近7納米的芯片，但良品率非常低。duv光刻機雖然是中低端光刻機，但目前全球絕大部分芯片都是duv光刻機制造的。所以duv光刻機理論上可以生產(chǎn)除高端手機芯片以外的所有芯片。

比亞迪自產(chǎn)芯片哪些？

比亞迪能自產(chǎn)分立器芯片、電源管理芯片、MCU芯片、光器件、傳感器芯片等幾種芯片，但還沒(méi)有覆蓋智能駕駛等所需的計算芯片、存儲芯片；在芯片產(chǎn)業(yè)鏈條上，比亞迪能夠設計、制造成熟制程的芯片，但上游材料、設備，基本不能做。

因此，可以說(shuō)比亞迪具備了多種芯片的自研自產(chǎn)能力，但不是全部芯片，也還沒(méi)有攻克先進(jìn)制程的芯片生產(chǎn)，也還面臨材料、設備的掣肘。

開(kāi)一家芯片公司需要什么設備？

開(kāi)一家芯片公司需要以下設備：
1. 芯片設計設備：芯片設計是芯片公司最核心的環(huán)節，需要高性能的計算機工作站和相應的電子設計自動(dòng)化（EDA）軟件，例如Cadence, Synopsys等。
2. 芯片制造設備：制造設備包括半導體制造機、檢測設備和封裝設備等。這些設備需要從半導體制造廠(chǎng)購買(mǎi)或租賃。
3. 研發(fā)實(shí)驗室設備：包括超凈實(shí)驗室、微處理器測試設備、電磁仿真軟件等，用于測試和驗證芯片設計和制造的各個(gè)階段。
4. 生產(chǎn)設備：包括生產(chǎn)線(xiàn)上的自動(dòng)化機器人、芯片測試設備和質(zhì)量檢測設備等，以確保生產(chǎn)過(guò)程中的質(zhì)量和效率。
5. 環(huán)境設備：包括溫度、濕度、氣壓等環(huán)境控制設備和相應的監測系統，以確保芯片生產(chǎn)的穩定性和一致性。
除了硬件設備外，一家成功的芯片公司還需要具備優(yōu)秀的技術(shù)團隊和管理團隊，以及與供應商、客戶(hù)和合作伙伴的良好合作關(guān)系等重要因素。

我國能制造哪一個(gè)級別芯片？

眾所周知，芯片生產(chǎn)有兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)：制造技術(shù)和制造設備。

技術(shù)方面，我們的中芯國際有能量產(chǎn)12 nm芯片的技術(shù)，而且良品率達到95%，12nm技術(shù)水準已經(jīng)相當成熟了。7nm技術(shù)已開(kāi)始流片，技術(shù)障礙不存在了，下一步通過(guò)技術(shù)提升來(lái)提高良品率。但是中芯國際生產(chǎn)用的海外設備占比達90%，國產(chǎn)設備僅僅10%，國產(chǎn)設備還任重道遠。接下來(lái)就主要講芯片制造的設備差距。

到此，以上就是小編對于芯片制造的生產(chǎn)設備的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于芯片制造的生產(chǎn)設備的5點(diǎn)解答對大家有用。