大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題，就是關(guān)于工藝設備與控制的問(wèn)題，于是小編就整理了2個(gè)相關(guān)介紹工藝設備與控制的解答，讓我們一起看看吧。

什么是CMP設備？

CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機械拋光。CMP技術(shù)所采用的設備及消耗品包括：拋光機、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點(diǎn)檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設備等。CMP技術(shù)的概念是1965年由Monsanto首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠鏡等。1988年IBM開(kāi)始將CMP技術(shù)運用于4MDRAM 的制造中，而自從1991年IBM將CMP成功應用到64MDRAM 的生產(chǎn)中以后，CMP技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來(lái)。區別于傳統的純機械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過(guò)化學(xué)的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現高質(zhì)量的表面拋光。 CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。

工藝裝備都有哪些分類(lèi)？

工藝裝備簡(jiǎn)稱(chēng)“工裝”，是指為實(shí)現工藝規程所需的各種刃具、夾具、量具、模具、輔具、工位器具等的總稱(chēng)。使用工藝裝備的目的；有的是為了制造產(chǎn)品所必不可少的，有的是為了保證加工的質(zhì)量，有的是為了提高勞動(dòng)生產(chǎn)率，有的則是為了改善勞動(dòng)條件。

工藝裝備的準備，對通用工裝只需開(kāi)列明細表，交采購部門(mén)外購即可。所以，工裝的大量準備工作主要是在專(zhuān)用工裝的設計和制造上。因為專(zhuān)用工裝的準備工作，類(lèi)似企業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)技術(shù)準備工作，它也需要一整套設計、制圖、工藝規程、二類(lèi)工裝準備、材料、毛坯的準備加工與檢驗等一系列的過(guò)程。

工藝裝備的分類(lèi)：

工藝裝備按照其的使用范圍，可分為通用和專(zhuān)用兩種。

1、通用工藝裝備(簡(jiǎn)稱(chēng)通用工裝)適用于各種產(chǎn)品，如常用刀具、量具，一般單件金額較低，財務(wù)會(huì )計上作低值易耗品處理，資產(chǎn)評估中幾乎不會(huì )列入固定資產(chǎn)。

2、專(zhuān)用工藝裝備(簡(jiǎn)稱(chēng)專(zhuān)用工裝)，即僅適用于某種產(chǎn)品、某個(gè)零部件、某道工序的，屬專(zhuān)用資產(chǎn)，且大多單件金額較高，符合同定資產(chǎn)的定義和確認條件。

專(zhuān)用的由企業(yè)自己設計和制造，而通用的則由專(zhuān)業(yè)廠(chǎng)制造。專(zhuān)用工藝裝備的功能、用途很廣，門(mén)類(lèi)很多，大體上可分為如下幾類(lèi)：刀具(專(zhuān)用)；量具(專(zhuān)用)；工具(專(zhuān)用)；夾具—機床(機械加工)夾具、焊接夾具、裝配夾具、檢驗夾具等。

工藝裝備的數量決定：

一般而言，專(zhuān)用工藝裝備的數量與企業(yè)的生產(chǎn)類(lèi)型、產(chǎn)品結構以及產(chǎn)品在使用過(guò)程中要求的可靠性等因素有關(guān)，在大批大量生產(chǎn)中要求多用專(zhuān)用工裝，而單件小批生產(chǎn)則不宜多采用；產(chǎn)品結構越復雜、技術(shù)要求越高，出于加工質(zhì)量的考慮，也應多采用；產(chǎn)品和工裝的系列化、標準化和通用化程度較高的工廠(chǎng)，專(zhuān)用工裝的數量就可以適當減少。

此外，在不同的生產(chǎn)階段對工裝數量的要求也不同，既使是在大批大量生產(chǎn)中，樣品試制階段也只對較復雜的零件設計和制造關(guān)鍵工裝；而到了正式生產(chǎn)階段則應設計和制造工藝要求的全部工裝，包括保證質(zhì)量、提高效率、安全生產(chǎn)以及減輕勞動(dòng)強度等需用的工裝。

到此，以上就是小編對于工藝設備與控制的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于工藝設備與控制的2點(diǎn)解答對大家有用。